為了確保TDK的積層貼片陶瓷片式電容的錫面精整并避免形成錫晶須，他們采取了多種措施。首先，他們使用致密的Ni層屏障來防止電極中的Cu成分向Sn膜層擴(kuò)散。這是因?yàn)樵陔姌O與Sn膜之間的界面上，Cu會(huì)與Sn反應(yīng)形成Cu-Sn合金，導(dǎo)致被膜應(yīng)力增大，進(jìn)而促使錫晶須的形成。為了防止這種情況的發(fā)生，TDK選擇了使用致密的Ni層作為屏障，有效隔離了Cu與Sn之間的直接接觸。

此外，TDK還選擇了使用無光澤的Sn電鍍液。一般來說，電鍍液可以分為有光澤和無光澤兩種類型。有光澤的電鍍液通常含有有機(jī)添加劑成分，這些成分會(huì)在共析過程中產(chǎn)生引張應(yīng)力，進(jìn)而促使錫晶須的形成。而無光澤電鍍液則不含這些有機(jī)添加劑，因此不會(huì)產(chǎn)生引張應(yīng)力，有助于減少錫晶須的形成。

通過這些措施，TDK成功地確保了積層貼片陶瓷片式電容的錫面精整，并有效地避免了錫晶須的產(chǎn)生。這些改進(jìn)措施不僅提高了電容器的品質(zhì)和可靠性，也滿足了電子設(shè)備對(duì)于高精度、高性能電容的需求。

以上內(nèi)容已經(jīng)詳細(xì)闡述了TDK的積層貼片陶瓷片式電容如何確保錫面精整而不會(huì)形成錫晶須。這一過程是精密且嚴(yán)謹(jǐn)?shù)?，體現(xiàn)了TDK對(duì)于產(chǎn)品質(zhì)量的追求和堅(jiān)持。

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